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  • Entwicklung eines maskenlosen Fotolithographiesystems zum Einsatz im Rapid Prototyping in der Mikrofluidik und zur gezielten Oberflächenfunktionalisierung

    Ansgar Waldbaur

    Band 19 von Schriften des Instituts für Mikrostrukturtechnik am Karlsruher Institut für Technologie
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    In dieser Arbeit wurde eine auf einem Mikrospiegelarray basierende, maskenlose Lithographieanlage entwickelt und aufgebaut, mit welcher Einzelbilder nahtlos nebeneinander projiziert werden. Es wurden über Abformprozesse und direktlithographisch aus verschiedenen Polymeren cm² große Mikrofluidikchips mit 50 µm Kanälen in wenigen Stunden hergestellt. Zudem wurden biochemische Ligandenmuster in 256 verschiedenen Dichtegraden in wenigen Sekunden auf 5 mm² Fläche mit wenige µm großen Pixeln erzeugt.

    In this work, a maskless lithography device based on a micro-mirror array was designed and built. Single projection frames are seamlessly projected next to each other. Microfluidic chips of several cm² size comprising channels of 50 µm have been built of various polymers via direct lithography and casting. Also, bio-chemical ligand patterns comprising 256 different ligand densities have been created in a few seconds on a 5 mm² substrate with pixel sizes of a few µm.

    Umfang: XVI, 133 S.

    Preis: €40.00 | £37.00 | $70.00

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    Waldbaur, A. 2013. Entwicklung eines maskenlosen Fotolithographiesystems zum Einsatz im Rapid Prototyping in der Mikrofluidik und zur gezielten Oberflächenfunktionalisierung. Karlsruhe: KIT Scientific Publishing. DOI: https://doi.org/10.5445/KSP/1000036845
    Waldbaur, A., 2013. Entwicklung eines maskenlosen Fotolithographiesystems zum Einsatz im Rapid Prototyping in der Mikrofluidik und zur gezielten Oberflächenfunktionalisierung. Karlsruhe: KIT Scientific Publishing. DOI: https://doi.org/10.5445/KSP/1000036845
    Waldbaur, A. Entwicklung Eines Maskenlosen Fotolithographiesystems Zum Einsatz Im Rapid Prototyping in Der Mikrofluidik Und Zur Gezielten Oberflächenfunktionalisierung. KIT Scientific Publishing, 2013. DOI: https://doi.org/10.5445/KSP/1000036845
    Waldbaur, A. (2013). Entwicklung eines maskenlosen Fotolithographiesystems zum Einsatz im Rapid Prototyping in der Mikrofluidik und zur gezielten Oberflächenfunktionalisierung. Karlsruhe: KIT Scientific Publishing. DOI: https://doi.org/10.5445/KSP/1000036845
    Waldbaur, Ansgar. 2013. Entwicklung Eines Maskenlosen Fotolithographiesystems Zum Einsatz Im Rapid Prototyping in Der Mikrofluidik Und Zur Gezielten Oberflächenfunktionalisierung. Karlsruhe: KIT Scientific Publishing. DOI: https://doi.org/10.5445/KSP/1000036845




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    Veröffentlicht am 28. November 2013

    Sprache

    Deutsch

    Seitenanzahl:

    163

    ISBN
    Paperback 978-3-7315-0119-0

    DOI
    https://doi.org/10.5445/KSP/1000036845